Chuẩn thuốc bảo vệ thực vật HAYASHI – Nhật Bản

Hóa chất tinh khiết Hayashi Pure Chemical Ind., Ltd

Hóa chất tinh khiết

Chuẩn phân tích

Hóa chất điện tử

Danh mục: Chất chuẩn sắc ký, Chất chuẩn thuốc bảo vệ thực vật, Hóa chất Phân tích, Hóa chất phân tích, Kiểm nghiệm thực phẩm Thẻ: HAYASHI, Hayashi Pure Chemical Ind., hóa chất điện tử, Hóa chất HAYASHI, Hóa chất tinh khiết Hayashi

Mô tả
Đánh giá (0)

Hóa chất tinh khiết Hayashi Pure Chemical Ind., Ltd

Trụ sở Hayashi Pure Chemical tại Osaka - Tòa nhà HPC building — Trụ sở Hayashi Pure Chemical tại Osaka – Tòa nhà HPC building

Hayashi Pure Chemical Ind., Ltd (HPC), thành lập năm 1904, là nhà sản xuất hóa chất tinh khiết, hóa chất phân tch, hóa chất điện tử, có trụ trở tại thành phố Osaka Nhật Bản.

Hayashi Pure Chemical Ind., Ltd sản xuất các thuốc thử và dung dịch chuẩn cho nghiên cứu thực nghiệm, sản xuất và kiểm tra chất lượng, đáp ứng rộng rãi nhu cầu của khách hàng trong lĩnh vực hóa học, y học, thực phẩm và phân tích môi trường.

Mảng sản phẩm lớn thứ 2 của Hayashi Pure Chemical là các hóa chất tinh khiết, dung môi và các hóa chất chuyên biệt cho công nghiệp điện tử. Như hóa chất ăn mòn nhẹ lớp kim loại, Hóa chất cho triển khai và tẩy rửa, Các hóa chất cho quá trình sản xuất FPD, tấm nền LCD, LED, màn hình cảm ứng, chất bán dẫn, các dung môi hóa chất siêu tinh khiết.

Các sản phẩm của Hayashi Pure Chemical đạt tiêu chuẩn chất lương ISO9001 và tiêu chuẩn ISO14001 (authorized by JCQA).

Các nhóm sản phẩm của Hayashi Pure Chemical bao gồm:

I. Hóa chất tinh khiết Hayashi cho thí nghiệm và phân tích

Hóa chất tinh khiết Hayashi Pure Chemical Ind., Ltd cho phân tích

1. Chất chuẩn phân tích dư lượng thuốc trừ sâu:

HPC cung cấp nhiều sản phẩm khác nhau cho phân tích dư lượng thuốc trừ sâu trong thực phẩm, trong ô nhiễm môi trường, trong thành phần các mẫu sinh vật gồn:

2. Chuẩn đối chiếu thuốc trừ sâu, thuốc thú y:

HPC cung cấp một loạt các sản phẩm có độ tinh khiết cao với công nghệ và thiết bị sản xuất mới nhất. Nhiều sản phẩm chuẩn của HPC là độc quyền duy nhất.

3. Chuẩn hỗn hợp thuốc trừ sâu GC/MS, LC/MS (cho phân tích thực phẩm)

HPC cung cấp nhiều loại chuẩn hỗn hợp (mix) thuốc trừ sâu đa dạng để phân tích tất cả dư lượng thuốc trừ sâu trong một lần phân tích h. Có bảy loại chuẩn thuốc trừ sâu GC-MS và mười loại chuẩn cho LC-MS.

Hóa chất tinh khiết Hayashi cho phân tích thuốc trừ sâu

4. Chuẩn hỗn hợp thuốc thú y (cho phân tích thực phẩm)

HPC cung cấp nhiều loại chuẩn hỗn hợp để phân tích tất cả các loại thuốc thú y tồn dư trong sản phẩm động vật cho 1 lần phân tích duy nhất. Có hai loại chuẩn cho acid sulfaminum ＋ folic và quinolone.

5. Chuẩn hỗn hợp thay thế cho phân tích tồn dư thuốc trừ sâu và thuốc thú y (cho phân tích thực phẩm)

Để có một mức tin cậy cao cho kết quả phân tích, HPC cung cấp cung cấp các chuẩn hỗn hợp thay thế của các chất thay thế xác định tồn dư thuốc trừ sâu và thuốc thú y. Có hai nhóm sản phẩm loại này và sáu loại chuẩn cho thuốc trừ sâu và thú y động vật.

6. Hóa chất thuốc thử chuẩn độ Karl Fischer

HPC cung cấp trọn bộ nhóm hóa chất dành cho chuẩn độ Karl Fischer xác định hàm lượng nước, chuẩn độ thể tích

Hóa chất tinh khiết Hayashi cho chuẩn độ KF

7. Hóa chất thuốc thử dùng chung và cho các ứng dụng đặc biệt

HPC cung cấp các hóa chất thuốc thử cho các mục đích chung của nghiên cứu cơ bản và cho hầu hết các mục đích như nghiên cứu hữ cơ, khoa học đời sống và tổng hợp các hợp chất hữu cơ.

II. Hóa chất tinh khiết Hayashi cho công nghiệp điện tử

HPC đã phát triển nhiều nhóm hóa chất chức năng và dung môi tinh khiết cho các công đoạn sản xuất thiết bị điện tử.

1. Hóa chất cho các ứng dụng chuyên biệt

Hóa chất ăn mòn nhẹ lớp kim loại (Metal Film Etchant):

Al (Aluminum) EtchantPure Etch NS series Taper control type)

Hóa chất tinh khiết Hayashi - Ethylene Glycol — Hóa chất tinh khiết Hayashi – Ethylene Glycol

Stacked Film EtchantPure Etch AS series (For Stacked Film)
Mo (Molybdenum) EtchantPure Etch AS series (For Mo)
APC EtchantPure Etch AS series (For APC)
Cu (Copper) EtchantPure Etch C series
Ti (Titanium) EtchantPure Etch TE series
W (Tungsten) EtchantPure Etch W series
Ta (Tantalum) EtchantPure Etch TA series
Cr (Chromium) EtchantPure Etch CR series
Au (Gold) EtchantPure Etch AU series
ITO EtchantClean Etch ITO series
Ag (Silver) Nanowire EtchantPure Etch GNW series
Insulating Film EtchantPure Etch ZE series
Si (Silicon) Etchant (Anisotropic) Pure Etch 160
Si (Silicon) Etchant (Isotropic) Pure Etch SE series

Hóa chất tinh khiết Hayashi cho chức năng chuyên biệt trng điện tử — Hóa chất tinh khiết Hayashi cho chức năng chuyên biệt trong điện tử

Hóa chất cho tẩy rửa và triển khai (Developer/Remover)

DeveloperPure Clean GN series
Solvent System Resist RemoverRemover A, Remover B
Water System Resist RemoverPure Clean MC series
Color Filter Remover for ReworkPure Clean CFX series

Hóa chất ăn mòn nhẹ Texturing (Texturing Etchant)

Single Crystalline Silicon Texturing EtchantPure Etch T80 series

Hóa chất ăn mòn nhẹ Roughening (Roughening Etchant)

AlGaInP Roughening EtchantPure Etch F100 series
GaP Roughening EtchantPure Etch F200 series
AlGaAs, GaAs Roughening EtchantPure Etch F300, F400 series
GaN (N-face) Roughening EtchantPure Etch F1000 series
Ni (Nickel) Roughening EtchantPure Etch MF100 series

DuPont Remover

Post-etch Residue Remover EKC265TM
Resist Remover EKC270TM, EKC2255TM, EKC2300TM
Resist Remover For Bump Process EKC162TM

Air Product:

Ceria Slurry DA NanoTM STI2100, DA NanoTM IMD2400

2. Các hóa chất cho quá trình sản xuất

Các hóa chất cho quá trình sản xuất FPD (FPD Manufacturing Process)
Các hóa chất cho quá trình sản xuất FPD các tấm nền LCD, Organic EL, Touch Panel v.v.
Các hóa chất cho quá trình sản xuất chất bán dẫn (Semiconductor Manufacturing Process)
Các hóa chất cho quá trình sản xuất tấm nền LED (LED Manufacturing Process)